Зубной налет.
Белая мягкая пленка, покрывающая шейку и коронку зуба. Удаляется во время чистки зубов и приема жесткой пищи. Это кариесогенный фактор. Представляет собой органическое вещество с большим кол-вом микробных клеток, которые находятся в полости рта, а также продуктов их жизнедеятельности. В 1 г зубного налета содержится 50000 микробных клеток (стрептококки). Различают ранний зубной налет (в течение первых суток), зрелый зубной налет (от 3 до 7 суток). http://tumen.sportcity74.ru/ как составить предложение для категории беговые дорожки.
В зубном налете 20% - сухого вещества, 80% - жидкого (густого). В сухом веществе есть минеральные вещества, белки, углеводы, липиды. Из минеральных веществ: Са – 5 мг в 1 г сухого зубного налета. Р – 8,3 мг, Na – 1,3 мг, К – 4,2 мг. Есть микроэлементы Са, Sr, Fe, Mg, F, Se.
Зубной налет могут образовывать дифтероиды, стафилококки и дрожжеподобные грибы.
При участии ферментов бактерий зубного налета, из глюкозы синтезируется декстран, из фруктозы - леван. Они и составляют органическую основу зубного налета. Образуются органические кислоты: молочная кислота, пируват, уксусная, пропионовая, лимонная. Это приводит к разрушению под зубным налетом поверхности эмали, за счет растворения неорганики эмали. Поэтому зубной налет является одним из важных звеньев в развитии кариеса и болезней пародонта.
Зубной налет минерализуясь, превращается в зубной камень. Часто зубной камень появляется с возрастом, но иногда у детей отложение зубного камня связано с врожденными поражениями сердца.
Смотрите также
Особенности кинетики реакций на поверхности гетерогенных катализаторов
Рассмотрим подробнее применение закона действия масс
для реакций на поверхности. Для описания скорости элементарной стадии
используют закон действия поверхностей. Если процесс определяется с ...
Особенности химической формы развития материи
Окружающий
нас материальный мир един и вместе с тем многообразен. Опираясь на данные
частных наук, научная философия изучает наиболее общую структуру мира.
С позиций научной философии реа ...
Химические способы очистки поверхностей полупроводниковых пластин
Современный этап развития радиоэлектроники
характеризуется широким применением интегральных микросхем (ИМС) во всех
радиотехнических системах и аппаратуре. Это связано со значительным усложн ...