Ионное травление.
Сущность ионного травления состоит в удалении поверхностных слоев материала при его бомбардировке потоком ионов инертных газов высокой энергии. При этом ускоренные ионы при столкновении с поверхностью пластин или подложек передают их атомам свою энергию и импульс.
* Ионное травление - процесс удаления загрязнений вместе с распыляемым в вакууме поверхностным слоем обрабатываемой поверхности при ее бомбардировке ускоренными ионами инертного газа.
Если во время столкновения энергия, передаваемая атому, превышает энергию химической связи атома в решетке, а импульс, сообщаемый атому, направлен наружу от поверхности, то происходит смещение атомов, их отрыв от поверхности - распыление. Для реализации этого процесса требуются определенные вакуумные условия, а ионы должны обладать определенными значениями энергий, достаточными для распыления материалов.
Разновидностью ионного травления является ионно-химическое (реактивное) травление, основанное на введении в плазму химически активного газа, обычно кислорода. При этом изменяется скорость травления вследствие химического взаимодействия между подложкой и добавленным газом.
Смотрите также
Химия сегодня
Химия - наука о веществах, изучающая их состав, строение,
свойства, а также превращения веществ, на сопровождающиеся изменением состава
атомных ядер.
"Широко простирает химия руки
с ...
Ртуть
Ртуть (лат. Hudrargyrum) – химический элемент 2 группы
периодической системы Менделеева; атомный номер 80, атомная масса 200,59. Ртуть
– элемент редкий и рассеянный, его содержание примерно ...
Способы получения синтез-газа из угля
Газификация —
высокотемпературный процесс взаимодействия углерода топлива с окислителями,
проводимый с целью получения горючих газов (Н2, СО, СН4).
Первым способом получения синтез-газа был ...