Ионное травление.
Сущность ионного травления состоит в удалении поверхностных слоев материала при его бомбардировке потоком ионов инертных газов высокой энергии. При этом ускоренные ионы при столкновении с поверхностью пластин или подложек передают их атомам свою энергию и импульс.
* Ионное травление - процесс удаления загрязнений вместе с распыляемым в вакууме поверхностным слоем обрабатываемой поверхности при ее бомбардировке ускоренными ионами инертного газа.
Если во время столкновения энергия, передаваемая атому, превышает энергию химической связи атома в решетке, а импульс, сообщаемый атому, направлен наружу от поверхности, то происходит смещение атомов, их отрыв от поверхности - распыление. Для реализации этого процесса требуются определенные вакуумные условия, а ионы должны обладать определенными значениями энергий, достаточными для распыления материалов.
Разновидностью ионного травления является ионно-химическое (реактивное) травление, основанное на введении в плазму химически активного газа, обычно кислорода. При этом изменяется скорость травления вследствие химического взаимодействия между подложкой и добавленным газом.
Смотрите также
Синтез метанола
...
Создание эпоксидных композиций пониженной горючести с электропроводящими и диэлектрическими свойствами
ОБЩАЯ
ХАРАКТЕРИСТИКА РАБОТЫ
Актуальность
проблемы
Цель работы: Для достижения поставленной
цели решались следующие задачи:
Научная
новизна работы
...
Заключение
В настоящее время школьный курс химии немыслим без экологической
стороны. В течение своей длительной жизни на Земле человечество в значительной
степени зависело от солнца как источника энергии. Его ...