Ионное травление.
Сущность ионного травления состоит в удалении поверхностных слоев материала при его бомбардировке потоком ионов инертных газов высокой энергии. При этом ускоренные ионы при столкновении с поверхностью пластин или подложек передают их атомам свою энергию и импульс.
* Ионное травление - процесс удаления загрязнений вместе с распыляемым в вакууме поверхностным слоем обрабатываемой поверхности при ее бомбардировке ускоренными ионами инертного газа.
Если во время столкновения энергия, передаваемая атому, превышает энергию химической связи атома в решетке, а импульс, сообщаемый атому, направлен наружу от поверхности, то происходит смещение атомов, их отрыв от поверхности - распыление. Для реализации этого процесса требуются определенные вакуумные условия, а ионы должны обладать определенными значениями энергий, достаточными для распыления материалов.
Разновидностью ионного травления является ионно-химическое (реактивное) травление, основанное на введении в плазму химически активного газа, обычно кислорода. При этом изменяется скорость травления вследствие химического взаимодействия между подложкой и добавленным газом.
Смотрите также
Поиск новых фторидофосфатов лития и переходных металлов
Для современной техники очень
важны энергоемкие и портативные аккумуляторы. Используемые в них электродные
материалы обладают рядом недостатков и поэтому актуален поиск новых материалов.
В ...
Синтез тиоцианомалонового эфира из броммалонового эфира
...
Особенности изучения химических элементов в средней школе (на
примере водорода)
В современном мире порой возникают ситуации, которые представляют
реальную опасность для человечества. Чаще всего люди сами способствуют их
возникновению либо по недомыслию, либо из - за недостатка ...