Постановка задачи.

Постановка задачи заключается в разработке программного обеспечения, которое необходимо, чтобы наглядно представить и понять, а также самому принять неотъемлемое участие в процессе расчета основных явлений при ионной имплантации.

1. По числу компонентов, заданной массе атомов, собственной концентрации атомов в кристалле, зарядам ядер ионов и атомов мишени, необходимо сделать расчет, конечным результатом которого послужит графическое представление расчета (зависимость концентрации примеси от глубины проникновения иона).

Рис. 1.1. Окно заставки

Далее следует окно, в котором пользователь должен будет выбрать тип решаемой задачи (Рис. 1.2.).

Рис. 1.2. Выбор требуемой задачи (в данном случае выбрана задача №1)

Затем появляется окно, в котором пользователю необходимо ввести все необходимые данные, для ее реализации (Рис. 1.3.).

Затем выводится окно, в котором представлены результаты расчета (Рис. 1.4.).

Конечным результатом данной задачи является форма с отчетом, показанная в приложении.

2. Расчет профилей распределения концентрации внедренных примесей в структурах с двойной имплантацией. Расчет производится путем использования данных из предыдущей задачи, а также имеется набор новых данных: энергия акцепторов, доза и все тоже самое для доноров. Конечным результатом является расчет глубины залегания p-n перехода и построение графической зависимости на основе рассчитанных данных.

Также, при выборе задачи №2 из меню заставки (см. Рис. 1.2.), появляется окно для ввода необходимых данных (Рис. 2.1.).

Рис. 2.1. Окно ввода данных (задача№2)

Затем выводится окно, в котором представлены результаты расчета (Рис. 2.2.).

Рис. 2.2. Результаты расчета задачи№2

3. Расчет ионно-имплантированных структур с покрытием и без покрытия.

Ö Данная задача находится еще в проекте!

Copyright © 2024 - All Rights Reserved - www.chemicalnow.ru