Пиролиз МОС.
возможность независимой регулировки исходных компонентов, что обеспечивает возможность получения эпитаксиальных слоев с любым заданным профилем распределения концентрации носителей заряда по толщине слоя;
отсутствие травящих агентов (HСl) в системе позволяет осуществлять рост эпитаксиальных слоев на гетероподложках;
возможность получать субмикронные эпитаксиальные слои (0.2-0.8 мкм), величина переходной области подложка-слой составляет 0.03-0.1 мкм.
Смотрите также
Полимеризация капролактама
...
Основы теории и основные понятия процесса хроматографического разделения
Процесс
хроматографического разделения очень сложен, тем не менее, его отдельные стадии могут быть смоделированы и представлены в
виде уравнений, достаточно точно и верно отражающих реальный ...
Генеральный план. Пояснения к схеме
генерального плана.
Проектируемый цех расположен
на территории г. Казань.
Площадь для проектирования
цеха имеет ровную поверхность.
Производственные здания
расположены с учетом безопасных расстояний, санитарных ...