Пиролиз МОС.
возможность независимой регулировки исходных компонентов, что обеспечивает возможность получения эпитаксиальных слоев с любым заданным профилем распределения концентрации носителей заряда по толщине слоя;
отсутствие травящих агентов (HСl) в системе позволяет осуществлять рост эпитаксиальных слоев на гетероподложках;
возможность получать субмикронные эпитаксиальные слои (0.2-0.8 мкм), величина переходной области подложка-слой составляет 0.03-0.1 мкм.
Смотрите также
Результаты ТД расчета и экспериментального исследования
системы Аl - АГСВ - каталитические
добавки
В данной главе
представлены данные термодинамического расчета характеристик базовых систем и
экспериментальные характеристики зажигания и горения исследуемых систем. ...
Витамины и их значение для организма
Трудно представить, что
такое широко известное слово как «витамин» вошло в наш лексикон только в начале
XX века. Теперь известно, что в основе жизненно важных процессов обмена веществ
в орг ...